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High techn¯e : art and technology from the machine aesthetic to the posthuman / R.L. Rutsky.

Por: Tipo de material: TextoTextoSeries Electronic mediations ; v. 2Detalles de publicación: Minneapolis, MN : University of Minnesota Press, 1999.Descripción: 196 p. ; 24 cmISBN:
  • 081663355X
  • 0816633568
Tema(s): Clasificación LoC:
  • N 72.T4 R87.1999
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Tipo de ítem Biblioteca actual Colección Signatura topográfica Copia número Estado Fecha de vencimiento Código de barras
Libros Biblioteca Francisco Xavier Clavigero Acervo Acervo General N 72.T4 R87.1999 (Navegar estantería(Abre debajo)) ej. 1 Disponible 289743

Incluye referencias bibliográficas (p. 159-185) e índice.