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Chemical vapour deposition : precursors, processes and applications /
edited by Anthony C. Jones, Michael L. Hitchman.
por
Jones, Anthony C
Hitchman, Michael L
Tipo de material:
Texto
; Forma literaria:
No es ficción
Detalles de publicación:
Cambridge, UK :
Royal Society of Chemistry,
2009
Otro título:
Chemical vapor deposition
Disponibilidad:
Ítems disponibles para préstamo:
Biblioteca Francisco Xavier Clavigero
(1)
Colección, signatura topográfica:
Acervo General
TS 695 C535.2009
.
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Precursor chemistry of advanced materials : CVD, ALD and nanoparticles /
volume editor: Roland A. Fischer ; with contributions by M.D. Allendorf ... [et al.].
por
Fischer, Roland A
Allendorf, Mark Donald
Series
Topics in organometallic chemistry
; 9
Tipo de material:
Texto
; Forma literaria:
No es ficción
Detalles de publicación:
Berlin ; New York :
Springer,
2005
Disponibilidad:
Ítems disponibles para préstamo:
Biblioteca Francisco Xavier Clavigero
(1)
Colección, signatura topográfica:
Acervo General
QD 411.7.S94 P74.2005
.
Hacer reserva
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