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Chemical vapour deposition : precursors, processes and applications / edited by Anthony C. Jones, Michael L. Hitchman. por
Tipo de material: Texto Texto; Forma literaria: No es ficción
Detalles de publicación: Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry, 2009
Otro título:
  • Chemical vapor deposition
Disponibilidad: Ítems disponibles para préstamo: Biblioteca Francisco Xavier Clavigero (1)Colección, signatura topográfica: Acervo General TS 695 C535.2009.

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Precursor chemistry of advanced materials : CVD, ALD and nanoparticles / volume editor: Roland A. Fischer ; with contributions by M.D. Allendorf ... [et al.]. por Series Topics in organometallic chemistry ; 9
Tipo de material: Texto Texto; Forma literaria: No es ficción
Detalles de publicación: Berlin ; New York : Springer, 2005
Disponibilidad: Ítems disponibles para préstamo: Biblioteca Francisco Xavier Clavigero (1)Colección, signatura topográfica: Acervo General QD 411.7.S94 P74.2005.

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