000 01252nam a2200361 a 4500
001 000516506
003 OCoLC
005 20240105145123.0
008 070322s2002 nyua r 001 0 eng d
010 _a 2002067800
020 _a0824708016 (acid-free paper)
020 _a9780824708016 (acid-free paper)
035 _a326491
040 _aDLC
_bspa
_cDLC
_dUIASF
050 4 _aTP 155.7
_bL86.2002
082 0 0 _a660/.281/0113
_221
100 _aLuyben, William L
245 1 0 _aPlantwide dynamic simulators in chemical processing and control /
_cWilliam L. Luyben.
260 _aNew York :
_bMarcel Dekker,
_c2002.
300 _aix, 429 p. :
_bil. ;
_c24 cm. +
_e1 disco óptico lasser de computadora 4 (3/4 plg.)
440 0 _aChemical industries ;
_v87
500 _aIncluye índice.
544 0 _aSolicitar el disco en el mostrador de Colecciones Especiales.
_3Disco óptico.
650 4 _aProcesos químicos -
_xSimulación por computadora.
650 4 _aControl de procesos químicos
_xSimulación por computadora.
650 0 _aChemical processes
_xComputer simulation.
650 0 _aChemical process control
_xComputer simulation.
905 _a01
942 1 _cNEWBFXC1
999 _c486522
_d486522
980 _851
_gRonald RUIZ